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藍寶石拋光工藝簡介

文章出處:http://www.xingyunyoufu.cn/industry/176.html人氣:664時間:2020-06-09

隨著多個產(chǎn)業(yè)的齊頭并進,給藍寶石晶體生產(chǎn)和加工企業(yè)帶來了巨大利好。鈞杰陶瓷正是一家致力于打造國內(nèi)一流的藍寶石精密加工企業(yè),我們可以加工超高精度的藍寶石工業(yè)產(chǎn)品。藍寶石加工洽談熱線:13412856568。藍寶石的應(yīng)用領(lǐng)域很多對產(chǎn)品表面粗糙度要求較高,因此往往在前端成型工序完成后,還要進行拋光的操作。而藍寶石晶體的硬度達到莫氏9,因此給其表面拋光也帶來了不小的難度。今天我們要講的就是關(guān)于拋光的問題。
為什么要對藍寶石進行拋光(CMP)
藍寶石一般坯料表面都比較粗糙,通過拋光能使其表面粗糙度大大提升,從而呈現(xiàn)出晶瑩剔透的質(zhì)感。有時我們也可以用拋光的方式來消除表面光澤。總之,拋光是為了使藍寶石表面達到自己想要的粗糙度及效果。
藍寶石拋光的方法
藍寶石主要的拋光工藝主要有:磨料水射流拋光、機械研磨拋光、熱化學(xué)拋光、純化學(xué)拋光、激光束拋光、離子束拋光、電火花拋光等。拋光方法不少,但是每種方法都有他的優(yōu)缺點,不太容易做到全局平面化。要想達到全局平面化,則需發(fā)展新的技術(shù),其中化學(xué)機械拋光可以真正使藍寶石襯底實現(xiàn)全局平面化,是目前機械加工中唯一可以實現(xiàn)表面全局平坦化的技術(shù)。下面我們就來看看這種技術(shù)的特點。
化學(xué)機械拋光
化學(xué)機械拋光技術(shù)是利用機械和化學(xué)雙重作用來完成的拋光工藝,這個過程比較復(fù)雜,影響拋光效果的因素也很多。首先被拋光材料表面于拋光液中的催化劑、氧化劑等發(fā)生化學(xué)反應(yīng)時,會產(chǎn)生一層較為容易去除的軟質(zhì)層,而后利用拋光液中的磨料和拋光墊將這層軟質(zhì)層去除。這樣就使得被拋光物體表面重新顯現(xiàn)出來。這一步完成后,再進行化學(xué)反應(yīng)。這種在機械和化學(xué)雙重作用交替進行,從而達到對材料表面進行拋光的目的。

圖2 化學(xué)機械拋光示意圖

 

藍寶石利用CMP這種拋光方式加工,通常會在磨削液中加入碳化硼、碳化硅、金剛石、氧化鋁和二氧化硅等粉體(如表1)


表1為各種研磨材料對藍寶石晶體的研磨性能對比

研磨拋光方法
采用研磨拋光這種方法來對藍寶石表面拋光時,其機理分為三個過程:

(1)水化層的形成。拋光過程中,在藍寶石基底上持續(xù)形成水化層,它比基底層軟,該水化層的形成有利于材料的去除,并產(chǎn)生高質(zhì)量表面。
(2)水化層的去除。磨料經(jīng)歷了與基底藍寶石一樣的表面水化,但磨料水化層硬度一般都大于藍寶石水化層,在基底寶石與磨料水化層之間的化學(xué)機械作用加速了材料去除,當磨料和基底藍寶石的表面在拋光壓力下緊密接觸在一起并剪切時,就相互粘附,進一步的剪切就會使粒子撕開鍵合的水化層,通過粒子的前邊沿促進材料去除。
(3)去除速率增加,在剪切力的作用下磨料將藍寶石的水化層逐漸去除,表面粗糙度能小于0.2nm。在藍寶石水化層去除后,表面活性得到提高,表面會進一步的水化,當增加拋光速率時,藍寶石表面去除的速率就會更快。


圖4 研磨拋光機理示意圖


以上介紹的兩種藍寶石拋光方法,供大家參考。更多有關(guān)藍寶石加工的信息,請持續(xù)關(guān)注“鈞杰陶瓷”官方網(wǎng)站。我們將為您提供權(quán)威、實用的加工案例分析。
 

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