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氮化硅陶瓷球的研磨拋光原因主要是運用微小的磨料顆粒產生的動能或化學作用，在軟質拋光工具或化學液、電/磁場等輔助作用下，從而達到對陶瓷球坯表面層進行拋光，獲得光滑或超光滑的陶瓷球表面。
氮化硅陶瓷球的表面能低，磨料和研磨介質在陶瓷球表面的附著性不強，這也是影響碳化硅陶瓷球拋光效率、表面粗糙度和研磨介質和磨料附著性差批直徑變動量的原因。由于低密度的原因導致氮化硅陶瓷球在研磨盤溝道中自轉性較差，也會影響到陶瓷球的加工精度特別是球形誤差。
前面我們已經為大家講了磁流體和化學機械兩種用于氮化硅陶瓷球的拋光工藝，今天我們接著來看另外的兩種拋光工藝。他們分別是超聲振動輔助拋光和集群磁流變拋光。
超聲波震動輔助拋光(UVP)
超聲波震動輔助拋光英文名稱為：Ultrasonic Vibration Aided Polishing。它主要是使拋光工具產生超聲頻率振動，從而達到拋光的效果。它是一種機械加工與超聲震動相互作用的加工方法。這種拋光的優點主要是其在粗研階段比傳統方式提高了2~3倍的速度。如果我們將前篇文章中提到的磁流變拋光技術與超聲波拋光技術相結合，對氮化硅陶瓷球進行拋光，材料去除率高于無超聲振動時的去除率，加超聲振動拋光陶瓷滾子1h后的表面Ra值可以從0.260 μm降為0.025 μm。
集群磁流變拋光
為了進一步實現氮化硅陶瓷球的精密拋光加工效率，由廣東工業大學閻秋生教授團隊創新研發的集群磁流變拋光陶瓷球工藝，將多個小磁性體有規則地排列在非磁性體材質的上下拋光盤的背部。當向拋光盤里面注入磁流變拋光液時，會在磁極上方形成集群磁流變效應拋光墊，用上下拋光盤表面所形成的集群磁流變效應拋光墊包覆陶瓷球并對其進行拋光。
集群磁流變拋光陶瓷球的機構原理圖
在加工時，因為磁流變拋光墊一直包覆著陶瓷球，將剛性接觸變成柔性接觸，大大減少了研磨沖擊及發熱產生的次生變形。具有拋光效果好、效率高且不產生亞表面損傷等優點，可以在保證表面質量和形狀精度的同時大大提高氮化硅陶瓷球的拋光效率。
本次對氮化硅陶瓷球拋光的有關工藝就為您先介紹到這里，接下來我們還會介紹一些氮化硅陶瓷異形結構件的加工工藝，我們將不定期的在本網站內更新。如果您還有氮化硅陶瓷加工的業務，歡迎您撥打我們的洽談熱線：13412856568。
